해외 시장 세계적 건설 투자 확대 원전 강국 한국 원전 설계 업체 한전기술 수혜

발전 효율/친환경성 등 여러 측면에서 원전은 미래 전기수요 증가의 현실적 대안 

원전은 사고 시 방사능으로 인한 재앙적 피해 위험 인명 환경 이 문제이나 그 위험을 잘관리한다면 발전효율 친환경성 등 여러 측면에서 어떤 연료보다도 압도적 우위에 있다. 체르노빌 후쿠시마 원전 사고로 세계적으로 원전에 대한 인식이 악화되기도 했으나 향후 크게 증가할 전기 수요에 대한 현실적 대안으로 재평가되며 최근에는 1) 사우디 UAE 등 중동국가들의 적극적 원전 건설 , 2) 폴란드 , 체코 , 영국 튀르키예 네덜란드 등 유럽 국가의 적극적 원전 투자 등 세계적으로 원전 투자 확대 분위기이다

세계적 원전 건설 투자 확대 원전 강국 한국 , 원 전 설계 업체 한전기술의 수혜는 당연

한국은 미국 중국 프랑스 러시아와 함께 세계에서 5 개 밖에 없는 원전 발전소 설계 및 건설 기술 보유 국가이다 중국은 자국 원전 건설에 집중하는 상황이며 러시아는 우크라이나 전쟁 이후 안보적 측면에서 기피되고 있는 상황이다 미국 은 스리마일섬 원전사고 이후 장기간 신규 원전 중단 상황이라 최근 원전 강화 움직임을 보이고 있 으나 중동등에서 원전 건설 시 선호되는 국가는 아니다 프랑스도 공기 준수 불량 등 기술적 문제로

원전 건설을 추진 중인 유럽 국가들에게도 선호되지 못하고 있다 따라서 한국의 원전수출 환경은 대외적으로 상당히 우호적인 상황인데 보수 정부 들어 탈탈원전 친원전 정책까지 적극적으로 추진하고 있는 등 대내적인 환경도 매우 우호적이다

2024 년은 Team Korea가 유력 수주 후보인 폴란드 24기 체코 1기 등의 최종 계약이 결정되는 시기인데 최근 웨스팅하우스가 한수원의 APR1400 노형에 대해 제기했던 소송을 미국 법원이 각하함에 따라 9/19 자 뉴스 T eam Korea 의 수주 가능성이 더욱 높아졌다고 할 수 있다. 그리고 장기적으로는 10기 이상 원전 건설을 계획하고 있는 사우디 또한 UAE BNPP 원전 건설을 성공적으로 수행한 경험이 있는 한국이 진행하는 것이 기술적으로나 경제적으로나 정치 안보적으로도 가장 현실적인 그림이라 장기적으로 지속적인 한국의 참여를 기대할 만하다고 판단한다. 

※ 한전기술은 발전소 관련 EPC 사업도 영위하고 있으나 주력사업은 발전소 설계용역 사업이다. 한전기술의 발전소 설계용역 사업은 원자력발전소만이 아니라 화력발전소도 포함하고 있으나 실적 기여도나 영향력은 원자력이 훨씬 크기 때문에 한전기술은 실적 측면에서나 주가 측면에서나 원자력 발전의 환경 변화나 방향성이 크게 영향을 미치는 특성이 있다.

※ 겨우 9 개월여 만에 6.5 배나 급등한 것은 과도했으며 그 여파로 인해 2022 년 은 실적이 강한 턴어라운드를 시현했 음에도 주가는 2021년 11 월말 Peak 이후 큰 폭으로 하락했으며 , 2023 년은 더욱 가파른 실적 개선 세가 예상 됨에 도 주가는 매우 제한적인 상승세에 그치며 횡보를 거듭하고 있는 등 동사 주가는 실적흐름과는 전혀 매칭이 되지 않고 있다 그리고 현재주가는 P eak 대비로는 거의 반토막이 났음에도 23 E 지배주주 EPS 대비 P ER 는 무려 60 배에 달하 는 등 밸류에이션 Multiple 또한 향후 수년간 실적 성장 흐름 전망에 기반한 정당하고 합리적인 Multiple 과는 거리가 먼 상황이다 즉 동사주가 흐름은 전형적이고 원전테마주 성격의 주가흐름이었다

하이브리드의 한계 

첫째, 하이브리드 단독으로는 연비 규제에 대응이 불가능하며, 전기차의 보조적인 역할에 그친다

미국의 평균 연비 규제는 바이든 대통령 집권 후, 2026년 49MPG(20.8km/ℓ) → 2032 58MPG(24.6km/ℓ)로 강화되었다. 미국 장 기준으로 소형 SUV인 싼타페 HEV 연비는 13.6km/ℓ로, 2026년 연비 제를 맞출 수 없다. 하이브리드의 대명사인 프리우스의 연비는 22.9km/ℓ로, 2026년 연비 규제를 맞출 수 있으나, 2032년에는 불가능하다. 내년 대선에서 공화당 후보가 당선될 시 연비 규제는 다시 완화될 수 있지만, 그럼에도 SUV 하이브리드는 여전히 규제를 맞출 수 없다.

유럽의 경우 이미 2021년부터 하이브리드로는 연비 규제를 맞출 수 없다. 유럽의 CO2 규제 부합을 위해서는 자동 차기업의 평균 연비는 2021년 26.5km/ℓ → 2025년 31.5 km/ℓ에 도달이 필요하다. 프리우스도 이를 맞추지 못한다. 이에 따라 유럽은 하이브리드 시장이 큰 것처럼 보이지만, 토요타, 혼다 M/S는 이미 하락세이다. 현대차/기아는 유럽 시장에서 하이브리드 외에 전기차를 적극적으로 출시하면서,VW, 스텔란티스에 이어 3위그룹에 등극하였다.

둘째, 하이브리드는 출력이 낮아 대형 SUV 또 는 픽업 트럭에 적용하기 어렵다

하이브리드는 내연기관차에 전기 동력을 추가하여 연비 효율에 초점을 둔 기술 이다 미국 시장의 경우 고출력이 필요한 대형 SUV 및 픽업트럭 수요가 50 이상 수요를 차지하고 있어 하이브리드 의 성장에 는 한계가 있다 미국 업체 중 GM 과 스텔란티스 크라이슬러 는 대형 SUV 와 픽업이 주력 이기에 하이브리드 기술 개발을 하지 않는다 포드는 하이브리드 기술이 있으나 소형 SUV Bronco 등에만 적용하고 있다

셋째, 하이브리드는 내연기관차보다도 더 시스템이 복잡하여 자율주행 기술 트렌드 와 맞지 않는다

Level 3 이상의 자율주행과 OTA를 통한 Firmware 업데이트를 위해서는 차량 내에 흩어져 있는 제어기가 통합되어야 한다 Legacy 업체들은 제어기 통합을 위해 차량 아키텍처 변화 기능별로 제어기를 통합하는 Domain Control 구역별로 제어기를 통합하는 Zonal Control 를 추진 중이다. 이처럼 하이브리드는 전기차 시대로 전환하는 데 있어 Cash Cow 역할 그리고 연비 규제를 맞추기 위한 보조적인 역할 에 그친다 저가 전기차가 대량 생산되기 시작하는 2025 년 이후 하이브리드의 수요성장률은 둔화될 전망이다.

EUV, 나노 공정의 핵심이 열리다 

차세대 반도체 공정의 핵심은 EUV 기반 초미세 패터닝의 현실화이며, 이를 위해 EUV 관련 소재 및 부품의 확보, 공정 수율 개선 및 후공정 비용 절감이 반드시 필요하다. 10nm 이하의 초미세 패터닝 영역은 EUV 노광 공정으로 넘어가기 시작했는데, 물리적으로는 5nm 이상의 패터닝은 EUV가 없어도 가능하다. 하지만 기존 DUV를 이용한 다중 패터닝 공정은 5nm 이하 공정에서 이론상으로 적용하기 어렵다. DUV 다중 패터닝 공정을 5nm 공정으로 구현하려면 마스크 배치가 100번 넘게 반복되어야 한다. 이렇게 많은 마스킹이 요구되는 공정은 원가와 수율 문제에서 자유로울 수 없으며 공정상 오류가 높아질 수 밖에 없어 검사시에도 시간과 비용이 증가하게 된다. 다양한 종류의 고성능 반도체를 만들기 위해서는 더 높은 집적도와 정밀도가 필요한데 EUV를 사용하게 되면 13.7nm 광원을 사용하므로 단일 패터닝 공정 대비 물리적으로 훨씬 작은 크기를 만들어낼 수 있기 때문에, 마스크 공정도 더 줄어들고 제조비용도 감소하게 된다.

​TSMC는 ASML의 EUV 장비를 100대 넘게 보유하고 있으며 전세계 EUV 장비의 70% 이상을 확보하고 있어 파운드리 내에서 독보적인 위치를 확보하고 있다. 현재 TSMC 3nm 공정에서 양산한 웨이퍼는 약 20,000달러로, 5nm 공정을 이용한 웨이퍼 가격보다 약 4,000달러 이상 비싸다.

삼 성전자는 단순히 비용 절감뿐만 아니라, 40nm이하의 Non-EUV DRAM이 기술측면에서 매우 복잡해지고 있으며, 사이클 타임 또한 길어지고 있다는 점에서 EUV 도입의지를 표명한 바 있다. 또한 5nm 이하의 DRAM 기술에서 EUV를 채택하게 되면 bit density가 최대 3배 증가할 수 있다. 삼성전자는 14nm DRAM에서 EUV 레이어 5개를 채택하고 있으며, 자율주행차를 타깃으로한 MCU, 차량 제어용 AP, XR/AR 전용 반도체 등은 성장 잠재력이 크지만 아직 TSMC가 주목하지 않는 시장이므로, 이런 시장을 선진입해서 고객과의 관계를 구축할 경우 삼성전자의 파운드리 경쟁력도 높아질 것이다.

인텔 역시 애리조나에 2개의 EUV 팹을 200억달러 (약 25조원)을 들여 투자할 계획이며, 미국 오하이오주와 오레건주, 유럽에 추가적인 팹 건설을 발표하였다. 인텔은 2025년 이후 ASML과 공동개발한 High NA인 0.55 NA급 EUV 장비 확보에 대한 우선권이 있기 때문에 이후 충분한 물량의 EUV 장비를 확보하게 된다면 향후 TSMC와 삼성전자, 인텔의 삼파전으로 이어질 가능성이 매우 높다.

​EUV 공정상 필수적인 요소 - 펠리클, 블랭크 마스크 

EUV는 파운드리, 메모리 등 광범위한 분야에서 적용되며, 특히 EUV 투입량 증가에 따라 웨이퍼와 레티클에서 추가적인 검사 장비가 요구되고 있고, 패터닝 공정상 EUV PR, EUV 블랭크마스크와 펠리클이 핵심적인 요소이다.

Logic(Foundry)의 경우 7nm에서는 평균적으로 10개 이상의 EUV layer가 요구되며, 5nm에서는 2배 수준인 20개 이상이 필요한 것으로 전망된다. 3nm 공정의 경우 약 25개 정도의 EUV레이어가 필요한 것으로 알려져 있다. DRAM의 경우 1y, 1z 노드에서는 1-2개의 EUV 레이어가 필요하지만 1a에서는 3-5개의 EUV 레이어가 요구된다. 적용 레이어가 증가할수록 관련되어 요구되는 펠리클도 증가하게 된다.

EUV 펠리클의 현재 

EUV 노광 공정은 노광기에서 나오는 빛을 마스크에 반사시켜 웨이퍼에 쪼이고, 웨이퍼 위 PR이 빛에 반응하면서 움푹 패이거나 남아있는 과정을 거쳐 진행된다. 여기서 EUV 대량 양산을 위한 주요 이슈 중 하나가 EUV 노광 공정상 발생하는 오염이다. EUV 펠리클은 얇은 박막을 포토마스크 위에 씌워 대기중 분자와 오염물질로부터 보호하는 필름으로, 패턴 결함을 줄이기 위한 용도로 사용된다. EUV 펠리클을 통한 EUV 광의 이중 투과는 반사마스크에 의해 결정되는데, EUV 펠리클의 투과율이 90%인 경우 노출 선량은 81%로 감소하게 된다. 이것은 20% 생산성이 감소한다는 의미이고, 여기서 발생된 에너지가 펠리클 막에 가해지면서 열적-기계적 특성에 영향을 미친다.

EUV 펠리클 필수 요건 

1) 투과율이 높고 반사율은 0에 수렴

2) 오염이 최소화되고, 온도를 견뎌야

3) 열방사성이 높고,열팽창 계수가 낮아야

4) 화학적으로 잘 견뎌내야 함

초기의 p-Si 기반의 펠리클은 투과도는 충족되었지만, 펠리클 수명과 직접적으로 연관된 기계적, 열적 안정도 측면에서 HVM 수준에 도달하지 못하였다. 250W EUV 광원으로 작동하는 EUV 노광기에서 40nm p-Si 펠리클의 최대 온도는 994℃에 이른다. 이러한 고진공 환경에서는 박막구조 때문에 EUV 펠리클을 노광 중 냉각할 수 있는 방법이 열방사밖에 없다.

따라서 이러한 문제를 해결하기 위해 1) 탄소계 재료를 삽입하여 기계적 특성을 개선하고, 2) 고방사 재료로 캐핑(capping)하여 열적 특성을 높이는 것이 최근의 개발트렌드이다. 메탈 계열의 펠리클을 사용하면 기계적 강도가 높아지면서 높은 투과율을 보여서 가장 빠르게 적용될 수 있을 것으로 기대된다. 그리고 탄소나노튜브(CNT)의 경우 평균 두께는 10nm이하이며, 다공성 구조라 투과율이 높은 특징 때문에 차기 펠리클 후보군으로 진행 중이며, 600W의 95% 투과율을 가질 것으로 예상된다. 향후 CNT를 EUV 펠리클에 적용하기 위해서는 소재의 변수(single or multi, 번들 사이즈, 광학적, 기계적, 열적 특성 등)와 밀도, 형태에 따른 특성을 조정해야 한다.

일률적인 솔루션은 없으며, 1) 생산 리스크와 비용 간의 균형을 맞추거나, 2) 레이어의 특성, 펠리클 투과도, 결함 발생가능성 등의 여부를 검토하여 파티클 오염을 제어할 수 있는지에 따라 두 방법 중 하나를 선택하고 있다. 마스크 일부가 오염되어도 나머지 부분만으로도 충분히 사용할 수 있는 메모리의 경우에는 무리해서 펠리클을 사용할 필요가 없다. 오히려 펠리클을 사용함으로서 감소하는 광량 때문에 생산성이 떨어지는 문제가 있다. 그러나 회로 일부만 오작동해도 전체를 못쓰게 되는 시스템 반도체 분야에서는 펠리클이 더 필요하다. 그럼에도 불구하고 쉽게 양산공정에 적용되지 못하는 이유는 펠리클이 파괴되었을 때 이물질이 묻은 것과는 비교할 수 없을 만큼의 심각한 오염이 발생하여 마스크를 버려야 하기 때문이다.

반도체 칩의 초소형화에 따라 미세선폭도 줄어들게 되고, 공정상 발생되는 Defect를 줄이기 위해 점차적으로 펠리클 사용량은 증가하게 될 것으로 전망된다. 현재는 펠리클 성능이 모든 조건을 충족하고 있으며, 대량 양산이 가능한 수준에 다다랐다. 최근 ASML이 발표한 내용에 따르면, 펠리클의 수명 테스트는 400W 이상에서도 견딘 것으로 보고되고 있다. 향후 High NA 노광기가 출시되더라도 현재의 펠리클과도 완벽하게 호환 가능하며, 추가적으로 800W이상을 견디는 새로운 소재로 펠리클 개발이 진행 중이다.

EUV 블랭크 마스크가 필요한 이유

블랭크 마스크는 lithography 공정에 사용하는 포토마스크의 원판으로, 블랭크 마스크 위로 반도체 패턴을 그려서 빛을 반사 및 투과시키면 웨이퍼 위에 상이 맺힌다. 따라서 EUV 블랭크마스크는 특수한 기계적, 화학적, 광학적 기능을 가진 수 개의 레이어로 구성되어 있다. 마스크 기판은 LTEM(Low Thermal Expansion Material) 기판으로, 최소 변형률로 마스크의 강도를 유지해야 하기 때문에 낮은 CTE뿐만 아니라, 무결점의 평탄도를 요구하며, 고반사율 및 전사 정밀도를 향상시키기 위해 전면의 경우 50nm이하, 후면의 경우 500nm 이하의 정밀한 평탄도가 요구된다. 이를 충족하기 위해 LTEM 기판 위에 반사체 역할을 하는 Multi-layer(ML)가 형성된다.

ML의 반사율이 낮으면 마스크의 광학 파워 손실율이 증가하는데, EUV블랭크 마스크의 가장 큰 리스크 요인은 긴 공정 시간 동안 ML의 성능을 유지할 수 있는지 여부에 달려있다

일본 업체들의 조사에 따르면, 2021년 EUV 블랭크 마스크 글로벌 시장 규모는 전년대비 약 13% 증가한 1억 6,005만달러로 추산되고 있다. EUV 블랭크 마스크는 제조공정상 난이도가 높으며, 특정 고객사향 제품을 일본 H사가 독점하다 보니 단가 협상도 쉽지 않다

일본 A사는 2022년 1월 EUV 블랭크 마스크 생산능력을 2배 확대하기 위해 신규 생산설비 증축을 하고 있으며, 시장점유율을 2025년 50%까지 높이겠다는 목표를 세우고 있다. 삼성전자를 필두로, SK하이닉스,마이크론이 10nm급 DRAM 5세대 또는 6세대 제품으로 넘어가면서 EUV 공정을 양산 도입하겠다고 밝히고 있기 때문에, 이와 관련되어 메모리 시장에서도 적용되는 EUV 레이어 수가 늘어나면서 EUV 블랭크 마스크 비용 지출도 기하급수적으로 늘어날 것으로 전망된다.

EUV PR, 반도체 EUV 소재 공급이 성장을 견인 

EUV PR 시장 규모는 반도체 Capex 투자에 비례하지만, 한편으로는 일본 업체의 트랙 장비 개발 속도에 반비례하기도 한다. 트랙 장비는 반도체 PR을 웨이퍼에 도포하고 현상하는 설비이다. 일본 T사가 글로벌 시장 점유율 90%로, 거의 독점적으로 공급하고 있다. T사의 신규 트랙 장비가 도입되면 PR 사용량을 절반 이하로 줄일 수 있게 되며, 코팅 신뢰성과 속도 확보만 가능하다면 충분히 도입될 가능성이 높다. TSMC, 삼성전자, 인텔, SK하이닉스가 EUV 라인 투자를 늘리고 있고, DRAM 역시 EUV 적용 레이어 수를 늘리고 있기 때문에, 포토레지스트 시장의 절대적인 성장세는 지속 증가할 가능성이 높다. 시장 조사업체인 Techcet에 따르면 EUV용 PR 시장은 2020년 이후 연평균 53%씩 성장해서 2025년 14만 5,000리터까지 늘어날 것으로 예상된다

반도체는 나노 단위의 미세 회로패턴으로 이루어져 있으며, 이러한 미세 패턴을 구현하려면 어느 부분을 깎아내고 어느 부분을 남길 지에 대해 명확하게 지정해주는 공정이 필요하다. 이공정이 포토(Photo)공정이며, 동일한 패턴을 정확한 위치에 정확한 모양의 크기로 형성해야 하고 이물질의 유입이 없어야 한다. 이러한 포토 공정은 EUV 도입으로 인해 더욱 중요해지고 있다.

EUV 노광공정 중 중요한 소재 중 하나가 포토레지스트(PR)인데, 2008년부터 꾸준히 포토레지스트에 대한 성능 개선이 이루어져왔지만 여전히 난이도가 높은 분야이다. 왜냐하면 1)해상도, 감도, 패턴 균일도(LWR)를 동시에 충족시키기 어려운 기술적인 문제와 2) 포토레지스트 반응 메커니즘상 EUV의 광에너지(92.5 eV)가 레지스트 소재의 광에너지(~10 eV)보다 더 높아 제어하기 어려운 문제가 있기 때문이다

반도체 포토레지스트는 반도체 공정에서 사용되는 핵심 재료 중 하나로, 마스크를 통해 선택적으로 빛을 받은 영역만 화학 반응을 일으켜 미리 그려진 미세패턴을 실리콘웨이퍼 기판 위에 형상화 할 수 있는 화학약품이다. 이것은 여러 가지 성분이 녹아있는 용액의 형태로 되어 있는데, 공정에 적용하기 위해서는 일정한 양의 용약을 웨이퍼 위에 회전 도포(spin-coating)하여 수백나노 ~ 수마이크론 단위의 얇은 필름을 형성시킨 후 노광기로 옮겨 사용한다.

포토레지스트의 주요 구성성분은 1) 포토레지스트의 접착력과 에칭 저항력을 향상시켜 패턴을 형성하는 고분자 수지(Resin)인 Novolac, 2) 빛을 쬐면 카르복실산(가장 강한 산성 화합물)으로 분해되어 산을 발생시켜 빛에 반응하는 감광제(PAG나 PAC), 3) 포토레지스트를 액화시키는 용매인 Solvent로 구성되어 있다.

고객사별로, 어떤 업체가 어떤 레이어용으로 공급하는지에 따라 PR 가격 차이가 큰데, 삼성전자는 대부분 일본 업체로부터 PR을 받고 있으나, 메모리용 EUV PR에서 국내 동진세미켐이 3순위 공급업체로 선정되어 일부 공급 중이다. SK하이닉스는 SK머티리얼즈퍼포먼스와 EUV 협업 중이나,가시적인 매출은 아직 나오고 있지 않다. 하지만 난이도가 높은 EUV PR에서도 국내 업체들의 양산 제품이 일부 라인을 중심으로 적용이 되고 있으며 기존 일본 업체들 중심에서 벗어나 고객사 다변화가 이루어지고 있다는 점은 고무적이라고 판단한다.

충전 인프라 소유 서비스 제공 여부가 사업자 구분의 기준

• 전기차 충전 인프라 사업자는 대형 주차장을 소유하여 중완속 충전기 중심으로 설치하며 충전 서비스는 CPO 에게 아웃소싱을 줄 가능성이 높음

• 급속 충전 인프라을 소유한 사업자는 충전 서비스를 직접 영위

• 충전 네트워크 사업자는 충전인프라 소유 사업자에게 솔루션 및 서비스를 제공하여 향후 충전 소매 사업으로 확장 가능

• 풀서비스 사업자는 제조 설치 운영 및 서비스까지 제공하며 높은 자금력 유력한 사이트 확보가 필수

전기차 충전 인프라 전기차 충전 서비스 사업 구분

• 전기차 충전 사업은 에너지 사업 충전기 인프라 사업 충전기 서비스 사업으로 구분

• 충전기 인프라 사업은 충전기 제조사가 충전기 제조 설치 유지보수를 진행하며 PE, 운용사 등이 충전 인프라 투자 진행

• 2022 년 4 월 롯데 현대차 KB 자산운용은 전기차 초고속 충전 인프라 SPC를 설립 추진

• 전기차와 충전기 대수가 누적되면서 충전기를 운영하는 CPO(Charge Point Operator) 와 e 모빌리티 서비스 사업 부각

최근 전기차 충전 요금 유사한 연비 휘발유의 절반 수준

• 전기차 충전 전력 요금은 100 kW 미만은 kWh 당 324.4 원을 부과, 복합 연비 5 3 km/kWh 인 전기차를 400 km 를 주행하기 위한 요금은 24,483 원 유사한 연비 13km/l 인 휘발유 차량은 50.769원(1650원/리터 기준)

• 테슬라의 Supercharger 급속 요금은 378원, 현대차 E-pit은 자사전기차에 대해 340원을 책정

• 국내 전체 전력 소비량 대비 전기차의 평균 비중은 2020년 0.3%에서 2034년 16.3%까지 상승할 것으로 전망

작년 말 기준 급속 충전기 1대 당 전기차 15.3 대

• 작년 9 월 기준 국내 충전기는 7 6 만개가 설치되었으며 급속 1 대당 전기차수 15.3개를 기록

• 서울 부산 인천 등의 광역시는 급속 1대 당 전기차수 20대 이상

국내 전기차 충전기는 수도권에 집중, 급속 충전기는 공공 중심

• 국내 전기차 충전기는 2022년 2월 기준 수도권과 경상이 각각 41%, 26.5% 집중

• 완속 충전기는 국가 보조금이 지급되면서 공공 뿐만 아니라 민간에서 적극적으로 설치하여 공간을 선점

• 급속 충전기는 한국전력, 환경부 등 공공 비중이 높음

• 전기차 보급률이 빠르게 상승해야 급속 충전기 보급이 급증할 것으로 예상

국내 충전기 누적 수량은 ‘30년까지 10.6배 증가한 180만 개

• 2022년 국내 충전기 누적 수량은 약 17만 개로 예상되며 2030년까지 10.6배 증가한 180만 개로 전망

• 2030년까지 전기차 충전기 누적 수량은 전기차 누적 수량의 50% 수준을 유지할 것으로 예상

• 2030년까지 국내 전기차 충전기는 완속, 저속 중심으로 증가하여 (초)급속 비중이 약 7% 수준

해외 전기차 충전 시장 

글로벌 전기차 충전 시장 2030년까지 약 9배 성장

• 글로벌 전기차 충전 시장은 '22년 465.4억 달러(약 65조원)에서 2030년 4,173.5억 달러(약 584조원)으로 약 9배 성장 전망 

• 전기차 충전 인프라와 서비스 시장은 2021년 각각 195억 달러,160억 달러에서 1,155억 달러(+492.2%)와 668억 달러(+317.6%)로 확대될 것으로 예상

• 전기차 대수 증가에 따라 우선 전기차 충전 인프라가 구축된 후 관련된 서비스 시장이 성장

해외 전기차 충전 시장 현황 

2021년 글로벌 전기차 충전기 약 180만대 설치

• 2021년 글로벌 전기차 충전기는 약 180만 대 설치되었으며 급속충전기가 약 60만 대를 차지

• 중국이 전세계 충전기 가운데 급속이 약 85%, 완속이 55% 기록 

• 노르웨이, 미국, 일본이 2021년 충전기 당 경량 전기차(LDV) 대수10대 이상인 반면 중국과 한국은 미만

• 미국의 급속 충전기 시장은 테슬라가 60%의 점유율 기록

단순히 달리는 자동차가 아닌 전기차

• V2X(Vehicle to X)는 자동차와 불특정 대상(X) 과의 전력을 공급받는 포괄적인 의미를 담고 있음

• X 는 다양한 대상이 될 수 있는데 V2L(Vhicle to Load), V2G(Vehicle to Grid), V2H(Vehicle to Home), V2V(Vehicle to Vehicle)등 구현 가능

• V2G 기술을 구현하기 위해서 필요한 요건은 1) 양방향 에너지 및 통신 전송이 가능한 전기차 기술 2) V2G 기술을 위한 표준 마련 3) 통신망 공격에 대비한 보안망 4) 전기차 충전 기반 시설의 확충 등이 있음

• 전기차 시대에는 차량은 단순히 운송 수단이 아닌 다양한 활용성을 지닌 전자기기로서의 새로운 경험을 선사할 수 있는 의미가 존재

전기차 충전 인프라 필수 요소 스마트 그리드

• 스마트그리드는 기존 전력 인프라(Grid)에 정보통신 인프라를 결합하여 공급 및 소비 데이터를 실시간 교환이 가능한 차세대 전력망

• 양방향 통신을 통해 전력 인프라의 모든 데이터를 관리가 가능하며 실시간 제어가 용이해 전력 효율 극대화 전망

• 전력 수요의 분산과 전력생산이 불규칙한 신재생에너지의 보급 활성화에 기여하며 에너지 효율 향상 기후변화 대응 등이 가능함

• 스마트 그리드는 디지털 기반의 인프라로 통신 자동차 가전 등 다양한 산업과 연계하여 고부가 가치 창출이 기대됨

스마트 그리드 구성 요소

• 스마트 계량계(AMI) 에너지 관리시스템(EMS) 에너지 저장시스템(ESS)

• 전기차 및 충전소 분전원 신재생에너지 양방향 정보통신기술

• 냉난방 운영설비 지능형 송배전 시스템 등으로 구성